ସିଲିକନ୍ ଫୋମ୍ ବୋର୍ଡରେ 300 ଡିଗ୍ରୀରୁ ଅଧିକ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧ ହାସଲ କରିବା ଗୁରୁତ୍ difficulties ପୂର୍ଣ୍ଣ ଅସୁବିଧା ଉପସ୍ଥାପନ କରିଥାଏ, କାରଣ ଷ୍ଟାଣ୍ଡାର୍ଡ ସିଲିକନ୍ ସାମଗ୍ରୀ ସାଧାରଣତ {- ଅବଧି ବ୍ୟବହାର ସମୟରେ - 60 ଡିଗ୍ରୀରୁ 200 ଡିଗ୍ରୀ ସୀମା ମଧ୍ୟରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରିଥାଏ, ଏବଂ ସ୍ୱଳ୍ପ ମିଆଦି ଶିଖର ତାପମାତ୍ରା 250 ଡିଗ୍ରୀ ଛୁଇଁପାରେ|ଯେତେବେଳେ ତାପମାତ୍ରା ଏହି ସୀମା ଅତିକ୍ରମ କରେ, ପଲିମର ବ୍ୟାକବୋନ୍ ଖରାପ ହେବାକୁ ଲାଗିଲା, ଫଳସ୍ୱରୂପ ସାମଗ୍ରୀର ଉଜ୍ଜ୍ୱଳତା, ଇଲାସ୍ଟିସିଟି ହରାଇବା ଏବଂ ଶେଷରେ ପଲଭରାଇଜେସନ୍ |
300 ଡିଗ୍ରୀରୁ ଅଧିକ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧ ହାସଲ କରିବାକୁ, ମ basic ଳିକ ସାମଗ୍ରୀ, ଦୃ for ୀକରଣ ପ୍ରଣାଳୀ, ଉତ୍ତାପ - ପ୍ରତିରୋଧକ ଯୋଗୀ, ଫୋମିଙ୍ଗ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଏବଂ ଗଠନମୂଳକ ଡିଜାଇନ୍ ଠାରୁ ବିସ୍ତୃତ ଡିଜାଇନ୍ ଏବଂ ଅପ୍ଟିମାଇଜେସନ୍ କରିବା ଆବଶ୍ୟକ |
ଏହି ଲକ୍ଷ୍ୟ ହାସଲ କରିବା ପାଇଁ ମୁଖ୍ୟ ବ technical ଷୟିକ ପଦ୍ଧତି ଏବଂ ବିଚାରଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି:
I. ମୂଳ ସାମଗ୍ରୀର ଚୟନ ଏବଂ ଅପ୍ଟିମାଇଜେସନ୍ |
ଏହା ହେଉଛି ସବୁଠାରୁ ମ fundamental ଳିକ ପଦକ୍ଷେପ |
ଉଚ୍ଚ ଫେନିଲ୍ ସିଲିକନ୍ ରବର ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ:
ନୀତି: ସାଧାରଣ ସିଲିକନ୍ ରବର (ମିଥାଇଲ୍ ଭିନିଲ୍ ସିଲିକନ୍ ରବର) ର ସୀମିତ ଉତ୍ତାପ ପ୍ରତିରୋଧକତା ଅଛି|ସିଲୋକ୍ସେନ୍ ମୁଖ୍ୟ ଶୃଙ୍ଖଳରେ ଫେନିଲ୍ ଗୋଷ୍ଠୀର ପରିଚୟ (ବିଶେଷତ dip ଡିଫେନିଲସିଲକ୍ସନ୍ ଚେନ୍ ସେଗମେଣ୍ଟର ଉଚ୍ଚ ବିଷୟବସ୍ତୁ) ପଦାର୍ଥର ଉତ୍ତାପ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ବହୁଗୁଣିତ କରିପାରିବ |
କାର୍ଯ୍ୟ: ବେନଜେନ ରିଙ୍ଗର ବହୁଳ ଗଠନ ଏବଂ ଏହାର ସଂଯୋଗ ପ୍ରଭାବ ଉତ୍ତାପକୁ - ସମ୍ବେଦନଶୀଳ Si {{1} O ବନ୍ଧକୁ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଭାବରେ ield ାଲ ଏବଂ ସ୍ଥିର କରିପାରେ, ଯାହା ଦ୍ the ାରା ଥର୍ମାଲ୍ ସାଇକ୍ଲିଜେସନ୍ ଅବକ୍ଷୟ ଏବଂ ପଲିମର ଶୃଙ୍ଖଳର ଅକ୍ସିଡେଟିଭ୍ ଖଣ୍ଡକୁ ପ୍ରତିରୋଧ କରିଥାଏ|ଉଚ୍ଚ - ଫେନିଲ୍ ସିଲିକନ୍ ରବର 250 - 300 ଡିଗ୍ରୀ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଲମ୍ବା - ଅବଧି ତାପମାତ୍ରା ଏବଂ 350 ଡିଗ୍ରୀରୁ ଅଧିକ ସ୍ୱଳ୍ପକାଳୀନ ତାପମାତ୍ରାକୁ ସହ୍ୟ କରିପାରିବ |
ରିଫୋର୍ସିଙ୍ଗ୍ ଫିଲର୍ ଭାବରେ ଫ୍ୟୁମ୍ ସିଲିକା ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ:
ଆବଶ୍ୟକତା: ଅଣସଂରକ୍ଷିତ ସିଲିକା ଜେଲର ଅତ୍ୟଧିକ କମ୍ ଶକ୍ତି ଅଛି|ଫ୍ୟୁମ୍ ହୋଇଥିବା ସିଲିକା (ନାନୋସ୍କାଲ୍ ସିଲିକା) ହେଉଛି ଏକମାତ୍ର ଦୃ for ଼ୀକରଣକାରୀ ଫିଲର୍ ଯାହା ସିଲିକା ଜେଲ୍ ଦ୍ୱାରା ଆବଶ୍ୟକ ଶକ୍ତି ଯୋଗାଇପାରେ |
ଆବଶ୍ୟକତା: ସ୍ treatment ତନ୍ତ୍ର ଚିକିତ୍ସା, ଛୋଟ କଣିକା ଆକାର ଏବଂ ବୃହତ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପୃଷ୍ଠଭୂମି ସହିତ ଉଚ୍ଚ - ଶୁଦ୍ଧତା ଫ୍ୟୁମ୍ ସିଲିକା ବ୍ୟବହାର କରିବା ଜରୁରୀ|ଏହା ସିଲିକା ମ୍ୟାଟ୍ରିକ୍ସରେ ଏକ ଶକ୍ତିଶାଳୀ ନାନୋ - ନେଟୱାର୍କ ଗଠନ କରିପାରିବ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ମଧ୍ୟ କିଛି ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ ବଜାୟ ରଖିପାରେ |
II ଉତ୍ତାପ ପ୍ରତିରୋଧକ ଯୋଗୀ ପ୍ରଣାଳୀ |
କେବଳ ମ basic ଳିକ ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ନିର୍ଭର କରିବା ଯଥେଷ୍ଟ ନୁହେଁ, ଏବଂ “ସୁରକ୍ଷା ଏବଂ ଏସକର୍ଟ” ରେ ସ୍ୱତନ୍ତ୍ର ଉତ୍ତାପ - ପ୍ରତିରୋଧକ ଯୋଗକ ଯୋଗ କରାଯିବା ଆବଶ୍ୟକ |
ଉତ୍ତାପ ସ୍ଥିରକାରୀ:
1) ଆଇରନ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ (Fe₂O₃): ଏହା ହେଉଛି ସବୁଠାରୁ କ୍ଲାସିକ୍ ଏବଂ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଉତ୍ତାପ - ପ୍ରତିରୋଧକ ଯୋଗୀ|ଲାଲ ରଙ୍ଗର - ବାଦାମୀ - Fe₂O₃ ସାଧାରଣତ used ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ|ଏହା ମାଗଣା ରେଡିକାଲଗୁଡିକୁ ଧରିଥାଏ ଯାହା ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ସିଲୋକ୍ସାନ ବ୍ୟାକବୋନ ଉପରେ ଆକ୍ରମଣ କରିଥାଏ ଏବଂ ଅଧିକ ସ୍ଥିର ସିଲୋକ୍ସାନ - କାର୍ବନ ଗଠନକୁ ଅନୁକରଣ କରିଥାଏ, ଯାହାଦ୍ୱାରା ମେରୁଦଣ୍ଡର ଅବକ୍ଷୟକୁ ପ୍ରତିରୋଧ କରିଥାଏ|ଏହାର ମାତ୍ରା ସାଧାରଣତ 0.5 0.5। To ରୁ parts ଭାଗ ମଧ୍ୟରେ ରହିଥାଏ |
2) ସିରିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ (CeO₂) ଏକ ଅତ୍ୟନ୍ତ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ବିରଳ ପୃଥିବୀ - ଆଧାରିତ ଉତ୍ତାପ - ପ୍ରତିରୋଧକ ଷ୍ଟାବିଲାଇଜର୍, ବିଶେଷତ Fe ଯେତେବେଳେ Fe₂O₃ ସହିତ ମିଳିତ ହୁଏ|ଏହା ସିଲାନୋଲ୍ ଗୋଷ୍ଠୀର ଘନତ୍ୱ ଏବଂ ଅକ୍ସିଡେସନ୍ କୁ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଭାବରେ ପ୍ରତିବନ୍ଧିତ କରେ |
3) ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ବିରଳ ପୃଥିବୀ ଅକ୍ସାଇଡ୍, ଯେପରିକି ଲାନଥାନମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ (La₂O₃) ମଧ୍ୟ ଭଲ ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ଦେଖାଏ |
ଉପଯୁକ୍ତ ଭଲକାନାଇଜେସନ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ଚୟନ କରନ୍ତୁ:
1) ପେରକ୍ସାଇଡ୍ ଭଲକାନାଇଜେସନ୍: ଫୋମିଙ୍ଗ୍ ସାମଗ୍ରୀ ପାଇଁ ପେରକ୍ସାଇଡ୍ (ଯେପରିକି ବିସ୍ (2,5 {{4} ତୃତୀୟ) ପେରକ୍ସାଇଡ୍) ସାଧାରଣତ vol ଭଲକାନାଇଜିଂ ଏଜେଣ୍ଟ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଏ|ସ୍ଥିର ବିଚ୍ଛିନ୍ନ ପଦାର୍ଥ ଏବଂ ଅଣ-କ୍ଷତିକାରକ ଗୁଣ ସହିତ ପେରକ୍ସାଇଡ୍ ବାଛିବା ଏକାନ୍ତ ଆବଶ୍ୟକ, ଯେତେବେଳେ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ଅବଶିଷ୍ଟ ପଦାର୍ଥଗୁଡିକ ଅବକ୍ଷୟ ନହେବା ପାଇଁ ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ ଭଲକାନାଇଜେସନ୍ ନିଶ୍ଚିତ କରେ |
2) ଫୋମ - ଗଠନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଅନୁମତି ଦେବାବେଳେ ପ୍ଲାଟିନମ୍ ସଲଫାଇଡ୍ (ଯୋଗ ସଲଫାଇଡ୍) ପସନ୍ଦଯୋଗ୍ୟ ପସନ୍ଦ|ଏହାର କ୍ରସ୍ - ସଂଯୁକ୍ତ Si - C ସଂରଚନା ପେରୋକ୍ସାଇଡ୍ - ଆଧାରିତ ସିଷ୍ଟମରେ C - C ବଣ୍ଡ ତୁଳନାରେ ଉନ୍ନତ ତାପଜ ପ୍ରତିରୋଧ ପ୍ରଦର୍ଶନ କରେ, କ dec ଣସି ବିଘ୍ନ ଅବଶିଷ୍ଟ ନଥାଏ|ତଥାପି, ପଲିଥିନ୍ - ଆଧାରିତ ପ୍ରଣାଳୀଗୁଡ଼ିକ କଠୋର ପ୍ରକ୍ରିୟା ଏବଂ ପରିବେଶ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ଆବଶ୍ୟକ କରନ୍ତି ଏବଂ ବିଷାକ୍ତ ହେବାର ସମ୍ଭାବନା ଥାଏ |
III ଫୋମିଙ୍ଗ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ଆହ୍ୱାନ |
ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧକୁ ଅନୁସରଣ କରିବାବେଳେ, ସମାନ ଏବଂ ସ୍ଥିର ଫୋମିଙ୍ଗ ଗଠନ ହାସଲ କରିବା ମଧ୍ୟ ଆବଶ୍ୟକ |
ରାସାୟନିକ ଫୋମିଙ୍ଗ ଏଜେଣ୍ଟ: କ୍ଷୟ ତାପମାତ୍ରା ଭଲକାନାଇଜେସନ୍ ତାପମାତ୍ରା ସହିତ ମେଳ ହେବା ଉଚିତ ଏବଂ କ୍ଷୟ ଉତ୍ପାଦ ଏକ ନିଷ୍କ୍ରିୟ ଗ୍ୟାସ୍ (ଯେପରିକି ନାଇଟ୍ରୋଜେନ୍) ହେବା ଉଚିତ|ବିଚ୍ଛେଦ ଅବଶିଷ୍ଟାଂଶ ସିଲିକା ଜେଲ୍ ମ୍ୟାଟ୍ରିକ୍ସର ଅବକ୍ଷୟକୁ ଅନୁକରଣ କରିବା ଉଚିତ୍ ନୁହେଁ |
ଶାରୀରିକ ଫୋମିଙ୍ଗ୍: ସୁପରକ୍ରିଟିକାଲ୍ ଫ୍ଲୁଇଡ୍ ଫୋମିଙ୍ଗ୍ ଭଳି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ରାସାୟନିକ ଫୋମିଂ ଏଜେଣ୍ଟ ଅବଶିଷ୍ଟ ସମସ୍ୟାକୁ ଏଡାଇ ଦେଇପାରେ, କିନ୍ତୁ ଉପକରଣର ବିନିଯୋଗ ବଡ଼ ଏବଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଜଟିଳ |
ମୁଖ୍ୟ ବିନ୍ଦୁ: କେଉଁ ଫୋମିଙ୍ଗ ପ୍ରକ୍ରିୟା ବ୍ୟବହୃତ ହେଉନା କାହିଁକି, କୋଷ ଗଠନ ସ୍ଥିର ଏବଂ କୋଷ ପ୍ରାଚୀର ଘନ ବୋଲି ନିଶ୍ଚିତ କରିବା ଆବଶ୍ୟକ|ଖୋଲା କୋଷ ଗଠନ କିମ୍ବା ଦୁର୍ବଳ କୋଷ ପ୍ରାଚୀର ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ଶୀଘ୍ର ଭାଙ୍ଗିଯିବ କିମ୍ବା ଭାଙ୍ଗିଯିବ, ଫଳସ୍ୱରୂପ ତାପଜ ଇନସୁଲେସନ୍ କାର୍ଯ୍ୟରେ ତୀବ୍ର ହ୍ରାସ ଘଟିବ |
IV। ସଂରଚନା ଏବଂ ପୋଷ୍ଟ - ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ଡିଜାଇନ୍ |
ଘନତା ବ / ଼ାନ୍ତୁ / ବୁବୁଲ ହ୍ରାସ କରନ୍ତୁ: ଓଜନ ଏବଂ କୋମଳତା ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରିବା ପରିପ୍ରେକ୍ଷୀରେ, ଫୋମ୍ ବୋର୍ଡର ଘନତ୍ୱକୁ ସଠିକ୍ ଭାବରେ ବ increase ାନ୍ତୁ (ଅର୍ଥାତ୍ ଫୋମିଙ୍ଗ୍ ଅନୁପାତକୁ ହ୍ରାସ କରନ୍ତୁ) ମୋଟା ଏବଂ ଅଧିକ ଉତ୍ତାପ - ପ୍ରତିରୋଧକ ଗର୍ତ୍ତ କାନ୍ଥ ପାଇପାରିବେ, ଯାହାଦ୍ୱାରା ସାମଗ୍ରିକ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଶକ୍ତି ବୃଦ୍ଧି ହେବ |
ଯ os ଗିକ ସଂରଚନା: ଏକ "ସାଣ୍ଡୱିଚ୍" ସଂରଚନା ସୃଷ୍ଟି କରିବାକୁ ଚିନ୍ତା କର, ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ, ଦୁଇ ପାର୍ଶ୍ୱ ଉଚ୍ଚ - ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧକ ନନ୍ - ପୋରସ୍ ସିଲିକନ୍ ଫିଲ୍ମ କିମ୍ବା ଗ୍ଲାସ୍ ଫାଇବର କପଡା କମ୍ପୋଜିଟ୍ ଏବଂ ମ in ିରେ ଏକ ଫେମ୍ ସ୍ତର ସହିତ ନିର୍ମିତ|ଏହା ଦୁର୍ବଳ ତାପମାତ୍ରା ଗଠନକୁ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ପରିବେଶକୁ ସିଧାସଳଖ ଏକ୍ସପୋଜରରୁ ରକ୍ଷା କରିପାରିବ |
ପୋଷ୍ଟ - ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଭଲକାନାଇଜେସନ୍: ଗଠିତ ଫୋମ୍ ବୋର୍ଡ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ତାପମାତ୍ରା - ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଭଲକାନାଇଜଡ୍ ହେବା ଆବଶ୍ୟକ (ଯେପରିକି 200 - 250 ଡିଗ୍ରୀରେ ଅନେକ ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ ରନ୍ଧା ଯାଇଥାଏ) ନିମ୍ନ ମଲିକୁଲାର୍ ଅସ୍ଥିରତାକୁ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣରୂପେ ହଟାଇବା ଏବଂ କ୍ରସ୍ ଲିଙ୍କ୍ ନେଟୱାର୍କକୁ ସ୍ଥିର କରିବା, ଯାହା ଦୀର୍ଘକାଳୀନ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ବ୍ୟବହାର ପାଇଁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ |